根據(jù)物質(zhì)的光譜來鑒別物質(zhì)及確定它的化學(xué)組成和相對含量的方法叫光譜分析。其優(yōu)點是靈敏,迅速。歷*曾通過光譜分析發(fā)現(xiàn)了許多新元素,如銣,銫,氦等。根據(jù)分析原理光譜分析可分為發(fā)射光譜分析與吸收光譜分析二種;根據(jù)被測成分的形態(tài)可分為原子光譜分析與分子光譜分析。光譜分析的被測成分是原子的稱為原子光譜,被測成分是分子的則稱為分子光譜。
發(fā)射光譜分析是根據(jù)被測原子或分子在激發(fā)狀態(tài)下發(fā)射的特征光譜的強度計算其含量。
吸收光譜是根據(jù)待測元素的特征光譜,通過樣品蒸汽中待測元素的基態(tài)原子吸收被測元素的光譜后被減弱的強度計算其含量。它符合郎珀-比爾定律:A=-lgI/Io=-lgT=KCL
式中I為透射光強度,I0為發(fā)射光強度,T為透射比,L為光通過原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。
物理原理為:
任何元素的原子都是由原子核和繞核運動的電子組成的,原子核外電子按其能量的高低分層分布而形成不同的能級,因此,一個原子核可以具有多種能級狀態(tài)。
能量低的能級狀態(tài)稱為基態(tài)能級(E0=0),其余能級稱為激發(fā)態(tài)能級,而能低的激發(fā)態(tài)則稱為第1激發(fā)態(tài)。正常情況下,原子處于基態(tài),核外電子在各自能量低的軌道上運動。
如果將一定外界能量如光能提供給該基態(tài)原子,當外界光能量E恰好等于該基態(tài)原子中基態(tài)和某一較高能級之間的能級差E時,該原子將吸收這一特征波長的光,外層電子由基態(tài)躍遷到相應(yīng)的激發(fā)態(tài)。原來提供能量的光經(jīng)分光后譜線中缺少了一些特征光譜線,因而產(chǎn)生原子吸收光譜。
電子躍遷到較高能級以后處于激發(fā)態(tài),但激發(fā)態(tài)電子是不穩(wěn)定的,大約經(jīng)過10-8秒以后,激發(fā)態(tài)電子將返回基態(tài)或其它較低能級,并將電子躍遷時所吸收的能量以光的形式釋放出去,這個過程稱原子發(fā)射光譜。可見原子吸收光譜過程吸收輻射能量,而原子發(fā)射光譜過程則釋放輻射能量。
光譜分析儀
根據(jù)現(xiàn)代光譜儀器的工作原理,光譜儀可以分為兩大類:經(jīng)典光譜儀和新型光譜儀。經(jīng)典光譜儀器是建立在空間色散原理上的儀器:新型光譜儀器是建立在調(diào)制原理上的儀器。經(jīng)典光譜儀器都是狹縫光譜儀器。調(diào)制光譜儀是非空間分光的,它采用圓孔進光根據(jù)色散組件的分光原理,光譜儀器可分為:棱鏡光譜儀,衍射光柵光譜儀和干涉光譜儀。
光學(xué)多道OMA(OpTIcalMulTI-channelAnalyzer)是近十幾年出現(xiàn)的采用光子探測器(CCD)和計算機控制的新型光譜分析儀器,它集信息采集,處理,存儲諸功能于一體。由于OMA不再使用感光乳膠,避免和省去了暗室處理以及之后的一系列繁瑣處理,測量工作,使傳統(tǒng)的光譜技術(shù)發(fā)生了根本的改變,大大改善了工作條件,提高了工作效率:使用OMA分析光譜,測盆準確迅速,方便,且靈敏度高,響應(yīng)時間快,光譜分辨率高,測量結(jié)果可立即從顯示屏上讀出或由打印機,繪圖儀輸出。它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量,分析及研究工作中,特別適應(yīng)于對微弱信號,瞬變信號的檢測。
光譜分析儀工作原理
原子發(fā)射光譜分析是根據(jù)原子所發(fā)射的光譜來測定物質(zhì)的化學(xué)組分的。不同物質(zhì)由不同元素的原子所組成,而原子都包含著一個結(jié)構(gòu)緊密的原子核,核外圍繞著不斷運動的電子。每個電子處于一定的能級上,具有一定的能量。在正常的情況下,原子處于穩(wěn)定狀態(tài),它的能量是低的,這種狀態(tài)稱為基態(tài)。但當原子受到能量(如熱能、電能等)的作用時,原子由于與高速運動的氣態(tài)粒子和電子相互碰撞而獲得了能量,使原子中外層的電子從基態(tài)躍遷到更高的能級上,處在這種狀態(tài)的原子稱激發(fā)態(tài)。電子從基態(tài)躍遷至激發(fā)態(tài)所需的能量稱為激發(fā)電位,當外加的能量足夠大時,原子中的電子脫離原子核的束縛力,使原子成為離子,這種過程稱為電離。原子失去一個電子成為離子時所需要的能量稱為一級電離電位。離子中的外層電子也能被激發(fā),其所需的能量即為相應(yīng)離子的激發(fā)電位。處于激發(fā)態(tài)的原子是十分不穩(wěn)定的,在極短的時間內(nèi)便躍遷至基態(tài)或其它較低的能級上。
當原子從較高能級躍遷到基態(tài)或其它較低的能級的過程中,將釋放出多余的能量,這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去的,其輻射的能量可用下式表示:(1)E2、E1分別為高能級、低能級的能量,h為普朗克(Planck)常數(shù);v及λ分別為所發(fā)射電磁波的頻率及波長,c為光在真空中的速度。
每一條所發(fā)射的譜線的波長,取決于躍遷前后兩個能級之差。由于原子的能級很多,原子在被激發(fā)后,其外層電子可有不同的躍遷,但這些躍遷應(yīng)遵循一定的規(guī)則(即“光譜選律”),因此對特定元素的原子可產(chǎn)生一系列不同波長的特征光譜線,這些譜線按一定的順序排列,并保持一定的強度比例。光譜分析就是從識別這些元素的特征光譜來鑒別元素的存在(定性分析),而這些光譜線的強度又與試樣中該元素的含量有關(guān),因此又可利用這些譜線的強度來測定元素的含量(定量分析)。這就是發(fā)射光譜分析的基本依據(jù)。
光譜分析儀有什么用途
光譜儀,又稱分光儀,廣泛為認知的為直讀光譜儀。以光電倍增管等光探測器測量譜線不同波長位置強度的裝置。其構(gòu)造由一個入射狹縫,一個色散系統(tǒng),一個成像系統(tǒng)和一個或多個出射狹縫組成。以色散元件將輻射源的電磁輻射分離出所需要的波長或波長區(qū)域,并在選定的波長上(或掃描某一波段)進行強度測定。分為單色儀和多色儀兩種。
構(gòu)成
一臺典型的光譜儀主要由一個光學(xué)平臺和一個檢測系統(tǒng)組成。包括以下幾個主要部分:
1.入射狹縫:在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點。
2.準直元件:使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄?。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
3.色散元件:通常采用光柵,使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。
4.聚焦元件:聚焦色散后的光束,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點對應(yīng)于一特定波長。
5.探測器陣列:放置于焦平面,用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。
主要應(yīng)用范圍
光譜儀應(yīng)用很廣,在農(nóng)業(yè)、天文、汽車、生物、化學(xué)、鍍膜、色度計量、環(huán)境檢測、薄膜工業(yè)、食品、印刷、造紙、喇曼光譜、半導(dǎo)體工業(yè)、成分檢測、顏色混合及匹配、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用、熒光測量、寶石成分檢測、氧濃度傳感器、真空室鍍膜過程監(jiān)控、薄膜厚度測量、LED測量、發(fā)射光譜測量、紫外/可見吸收光譜測量、顏色測量等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
CIOE精密光學(xué)展&鏡頭及攝像模組展是亞洲規(guī)模與影響力的光學(xué)專業(yè)展覽,覆蓋光學(xué)全行業(yè)生態(tài)鏈板塊,目前獲得逾850多家光學(xué)企業(yè)支持。其中光學(xué)成像測量/光學(xué)儀器展區(qū)展品范圍涵蓋光學(xué)顯微鏡、激光干涉儀、光譜儀、機器視覺系統(tǒng)、自動光學(xué)檢測(AOI)系統(tǒng)、非接觸式位移測量系統(tǒng)、三座標測量儀、投影儀、光學(xué)平臺及位移臺、表面視覺檢測系統(tǒng)、望遠鏡、天文觀測儀器、觀鳥鏡及支架等光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)品等,是集商貿(mào)采購、技術(shù)交流及行業(yè)趨勢發(fā)布為一體的專業(yè)平臺。